Học tập và làm theo lời Bác: 35 năm nghiên cứu và ứng dụng công nghệ mạ PVD

Chủ tịch Hồ Chí Minh đã căn dặn: “Khoa học phải từ sản xuất mà ra và phải trở lại phục vụ sản xuất, phục vụ quần chúng, nhằm nâng cao năng xuất lao động và không ngừng cải tiến đời sống của nhân dân.”. Đây chính là phương châm của Chủ tịch Hồ Chí Minh về tổ chức nghiên cứu khoa học; khoa học phải gắn với nhiệm vụ, với đời sống xã hội; khoa học phải gắn với thực tiễn, phải từ thực tiến và quay lại phục vụ chính thực tiễn và phải đáp ứng nhu cầu của sản xuất, phục vụ sản xuất, nhằm nâng cao năng suất lao động và nâng cao đời sống vật chất của nhân dân.

Thực hiện lời dạy của Bác, trong suốt 35 năm qua TS Phạm Hồng Tuấn và các cộng sự tại Trung tâm Quang điện tử đã kiên trì nghiên cứu, ứng dụng công nghệ mạ PVD đã có nhiều kết quả ứng dụng trong công nghiệp, đời sống và an ninh quốc phòng.

TS Phạm Hồng Tuấn tham dự Hội nghị biểu dương, tôn vinh điển hình tiên tiến toàn quốc năm 2023

Được sự đầu tư của Nhà nước từ khi thành lập (1986) Trung tâm đã nhập được các thiết bị mạ chân không, đo quang phổ thuộc loại hiện đại nhất từ hai liên hiệp xí nghiệp Cộng hoà Dân chủ Đức là Hoch Vakuum Dresden và Carl Zeiss Jena. Trong quá trình phát triển, phòng thí nghiệm thường xuyên được bổ sung các thiết bị hiện đại khác của các nước phát triển và đến nay cơ sở thí nghiệm này được coi là tốt nhất của Việt Nam trong lĩnh vực công nghệ màng mỏng. TS Tuấn và cộng sự đã thực hiện nhiều đề tài cấp nhà nước, đề tài theo Nghị định thư về hợp tác khoa học và công nghệ với Cộng hoà Liên bang Đức, đề tài cấp bộ, cho phép làm chủ các kỹ thuật mạ PVD tiên tiến, đào tạo được đội ngũ cán bộ khoa học giỏi chuyên ngành và tạo được các sản phẩm có chất lượng cao trong lĩnh vực màng mỏng như:

– Về màng mỏng quang học :

+ Làm chủ phương pháp tính toán, thiết kế mô phỏng, tối ưu hoá các hệ màng mỏng quang học đặc thù với các chức năng quang đa dạng và phức tạp.

+ Làm chủ các phương pháp tạo màng quang học tiên tiến: phương pháp bốc hơi bằng chùm tia điện tử, phương pháp phún xạ cao tần (RF-Sputtering), phương pháp phún xạ xung DC magnetron, phương pháp tạo màng có hỗ trợ bằng nguồn ion (Ion Assisted Deposition: IAD) cho phép chế tạo các hệ màng mỏng chất lượng cao, bền vững với điều kiện môi trường nhiệt đới, phục vụ cho nhu cầu an ninh-quốc phòng.

+ Đã chế tạo được nhiều sản phẩm ứng dụng trong thực tế như các linh kiện quang học để chế tạo các loại laser rắn, laser CO2; các hệ màng khử phản xạ giải rộng dùng trong các ống kính telescope chất lượng và độ chính xác cao; các màng khử phản xạ và bảo vệ trên mắt kính làm bằng plastic; các hệ gương lạnh và lọc nhiệt dùng trong đèn chiếu sáng chuyên dụng; các bộ lọc giao thoa và lọc cạnh dùng trong kỹ thuật ghép – tách kênh phân tần của mạng thông tin quang.

+ Đã chế tạo được các màng giảm phản xạ cho các thiết bị ảnh nhiệt, vùng 3÷5 µm và 8÷12 µm.

+ Đã chuyển giao thành công nhiều quy trình công nghệ mạ quang học cho các nhà máy quốc phòng Z751, Z133, Z123.

– Về màng cứng, màng chức năng:

Đã nghiên cứu chế tạo các loại màng TiN, ZrN, TiC, TiCN, CrN bằng công nghệ mạ hồ quang chân không, ứng dụng mạ các lớp phủ cứng cho: nẹp vít xương trong y tế mạ, khuôn đúc nhựa mạ, khuôn đúc hợp kim nhôm và hợp kim kẽm, lớp phủ chức năng dùng trong lĩnh vực an ninh quốc phòng.

Nhiều sản phẩm mạ pha đèn xe máy, xe đạp điện đã được ứng dụng trong thực tế.

Một số sản phẩm công nghệ mạ PVD ứng dụng trong sản xuất và an ninh quốc phòng

Định hướng nghiên cứu trong thời gian tới về công nghệ mạ PVD là cập nhật những công nghệ, vấn đề thời sự đang được tập trung nghiên cứu trên thế giới có tiềm năng ứng dụng tại Việt Nam, đẩy mạnh ứng dụng, chuyển giao công nghệ mạ PVD góp phần phát triển kinh tế xã hội và đảm bảo quốc phòng an ninh.

Chương trình Học và làm theo lời Bác đã được phát sóng trên VTV1 giới thiệu về TS Phạm Hồng Tuấn –35 năm nghiên cứu và ứng dụng công nghệ mạ PVD

Nguồn: Trung tâm Quang điện tử